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r9arrow

金虫 (小有名气)

[交流] 【讨论】大家帮忙说说我的样品(单晶基片上的铝膜)能否做EBSD呢?

封装好的电子器件,尺寸大概1cm X 0.5cm,把其中一面的塑料壳磨掉,露出里面引线键合着的芯片。芯片是镀有一层金属铝膜的基片,基片尺寸大概 8mm X 2mm X 0.5mm,其上的铝膜厚度约500nm,铝膜已经光刻蚀刻图形化,成为线宽10μm,线距10μm的铝线图形。

我想表征的是铝膜的晶粒尺寸分布,但SEM下显示的图形无法判断,TEM制样又太麻烦,现在想用EBSD来做,大伙说这个样品适合做EBSD么,能得到清晰的晶粒取向图形,能判断晶粒尺寸吗?(薄膜中Al晶粒尺寸较小,我估计在200nm至1.5μm之间)

[ Last edited by r9arrow on 2010-1-20 at 20:58 ]

检测表征

[ Last edited by ding2008212 on 2011-3-24 at 12:17 ]
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突然来了一个机会,空空的没有目的;就像姑娘当初生了我们,我们没有说愿意
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comma

专家顾问 (知名作家)

材料人


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
几个nm厚的话应该没有问题。
这种膜做EBSD极易产生所谓的伪线织构-Axiotaxy,详情见Nature上发表的“An off-normal fibre-like texture in thin films on single-crystal substrates.pdf“
每天一小步也有新高度
6楼2010-01-21 12:23:03
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seamaid_love

金虫 (小有名气)

你的样品是不是要保持原样,不能腐蚀的
2楼2010-01-20 22:12:07
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r9arrow

金虫 (小有名气)

引用回帖:
Originally posted by seamaid_love at 2010-1-20 22:12:
你的样品是不是要保持原样,不能腐蚀的

是哦,Al膜太薄了,顶不住腐蚀呀
突然来了一个机会,空空的没有目的;就像姑娘当初生了我们,我们没有说愿意
3楼2010-01-20 23:02:25
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comma

专家顾问 (知名作家)

材料人

★ ★
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yusen_1982(金币+1,VIP+0):欢迎讨论!!!! 1-21 07:20
只要表面没有氧化铝影响可以直接做,EBSD分析没必要腐蚀。
建议多试几个不同加速电压,估计稍低加速电压效果会好,高速电压会穿透薄膜。基片是Si?若基片不导电也比较麻烦,若是Si基片也麻烦,因为Si的衍射信号很强,会掩盖Al膜的衍射信号,或者你可能会分辨不出做出来的map是Al的还是Si的,因为都是FCC结构,两者极易误标。
另一方面,线宽10微米也很小,场发射电镜是首选。
每天一小步也有新高度
4楼2010-01-20 23:20:01
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