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dyingfish8158

木虫 (正式写手)

[交流] 【请教】多孔二氧化硅的合成

看到一些文献,纳米二氧化硅小球的比表面积都是很高的(直径在300-600 nm之间),一般都在300 m2/g以上,而另外一些文献则得到,二氧化硅小球的比表面积极低,只有十几m2/g。
我比较了一下,它们之间的区别在于有无使用表面活性剂,使用了则比表面很高,反之则很低。请教各位一下,是不是真的是表面活性剂在起来造孔的模板作用呢?
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前进!前进!!前进!!!
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ychan

木虫 (正式写手)


dyingfish8158(金币+1):谢谢参与
介孔SiO2的比表面积包括内外表面积(包括孔),所以就很大了!
个人主页:http://mesoporous.weebly.com/
3楼2010-01-09 14:33:48
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zhangkui198304

铁杆木虫 (职业作家)


dyingfish8158(金币+1):谢谢参与
当然是了
文献很多的
2楼2010-01-09 13:24:17
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ke30ke

木虫之王 (文坛精英)


dyingfish8158(金币+1):谢谢参与
的确是这样。使用了表面活性剂的,尽管其颗粒比较大,但是,其中存在许多由模板剂造成的孔洞,所以,比表面就高
4楼2010-01-09 16:18:32
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yangkui1984

银虫 (初入文坛)

有这样一篇文章!


dyingfish8158(金币+1):谢谢参与
我好像有一篇这样的文章!好像是修饰SiO2表面的。要是想要,我的email 是yangkui1984@163.com

[ Last edited by yangkui1984 on 2010-1-9 at 16:30 ]
好好学习,天天向上!
5楼2010-01-09 16:28:49
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