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dyingfish8158木虫 (正式写手)
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【请教】多孔二氧化硅的合成
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看到一些文献，纳米二氧化硅小球的比表面积都是很高的（直径在300-600 nm之间），一般都在300 m2/g以上，而另外一些文献则得到，二氧化硅小球的比表面积极低，只有十几m2/g。 我比较了一下，它们之间的区别在于有无使用表面活性剂，使用了则比表面很高，反之则很低。请教各位一下，是不是真的是表面活性剂在起来造孔的模板作用呢？ |
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zhangkui198304
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ke30ke
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有这样一篇文章！
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dyingfish8158(金币+1):谢谢参与
dyingfish8158(金币+1):谢谢参与
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我好像有一篇这样的文章！好像是修饰SiO2表面的。要是想要，我的email 是yangkui1984@163.com [ Last edited by yangkui1984 on 2010-1-9 at 16:30 ] |
5楼2010-01-09 16:28:49
6楼2010-01-12 15:41:48
dyingfish8158(金币+1):多谢多谢，没想到这么久了，还能得到兄台的帮助！！！感激感激！！！ 2010-03-12 19:42
| 一般用表面活性剂造孔的比表面积大，现在的趋势是做成空心纳米结构，可以看下面这篇文章http://pubs.acs.org/doi/pdf/10.1021/nn901398j |
7楼2010-03-12 14:16:46
