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yjyang07

木虫 (著名写手)

[交流] 【交流】磁控溅射自偏压为什么老是波动

射频磁控溅射自偏压刚刚起辉溅射时较低,慢慢又升高了50伏左右,这是为什么?自偏压高似乎不利于薄膜生长?大家怎么看?
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天行健,君子以自强不息~~~~~
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yjyang07

木虫 (著名写手)

引用回帖:
Originally posted by tmxkzk at 2010-1-12 15:33:
看你靶材有没有清理干净,或者基座清理一下,我以前也遇到过你这种情况。

好的  我会注意的  谢谢
天行健,君子以自强不息~~~~~
5楼2010-01-12 15:57:06
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yjyang07

木虫 (著名写手)

引用回帖:
Originally posted by ddx-k at 2010-1-14 10:03:
应该是溅射不稳定造成的,你是否反应溅射,反应溅射很容易出现这样的问题。建议先用挡板档住靶材预溅射5-10min。

不是反应溅射
天行健,君子以自强不息~~~~~
7楼2010-01-14 14:15:26
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