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lixinli

铜虫 (小有名气)

[交流] 【求助】p型微晶硅薄膜和n型微晶硅薄膜的光学带隙和禁带宽度的差别

我向各位大侠们请教一个半导体方面的问题:对p型和n型微晶硅来说它们的禁带宽度相差大不?到底是谁大些?比如我们认为非掺杂的微晶硅的禁带宽度为1.12ev,那么是p型还是n型的大于1.12ev?还有就是迁移率带隙和禁带宽度是不是一个概念?数值大小是不是相等?如果用以电池的话,n型的微晶硅的光学带隙是大点好还是小的好?
谢谢大家提出宝贵意见

[ Last edited by lixinli on 2009-12-24 at 21:38 ]
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zhuzhen2003

银虫 (初入文坛)

★ ★ ★ ★
小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
小木虫:)(金币+3,VIP+0):3q 12-26 00:17
掺杂只会改变费米能级的位置,如果是少量掺杂,带隙不怎么改变吧。如果重掺杂发生载流子简并,得考虑带尾态和moss-burstein移动的影响。
3楼2009-12-25 10:03:02
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