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【讨论】荧光干扰峰分析
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选择380nm激发,空白在440nm处得到强度为64.22 的峰。 加入待测样品,380nm激发,在440.6nm处得到强度47.7的峰。 可否认为,440nm处的峰为干扰峰,即瑞利峰? 仪器:F-4500 |
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4楼2009-12-22 14:01:44
2楼2009-12-22 09:16:46
关宏亮
至尊木虫 (正式写手)
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- 专业: 污染控制化学
3楼2009-12-22 09:41:34
huangwei698
银虫 (初入文坛)
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- 虫号: 468446
- 注册: 2007-11-27
- 性别: MM
- 专业: 分析化学
5楼2009-12-22 14:54:40












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