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【请教】可以用氢氧化钠腐蚀硅片上的二氧化硅层吗
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| 除了用HF腐蚀SiO2外,可以用NaOh腐蚀SiO2吗? |
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drintor
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2楼2009-12-10 14:59:33
wangyang7887
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4楼2009-12-10 23:46:40
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小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
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| 根据你的题目，回答如下：NaOH溶液腐蚀SiO2的速率较慢（和SiO2的生长方法以及溶液浓度、温度有关），但它是一种有效各向异性的Si腐蚀液。看你的专业方向是半导体器件，难道不知道Na K 离子的沾污对器件及其它工艺的影响么？一般只有在少数器件加工中用到KOH溶液,如VDMOS，但现在多采用TMAH来腐蚀Si（考虑对工艺的污染）. SiO2的湿法腐蚀一般采用BOE(HF酸的一种缓冲液，可有效控制腐蚀速度减小undercut）。另外捎带对3楼的说法提出一些改动：硅片清洗的常用方法（如CMOS)是采用Piranha溶液或RCA溶液去除有机和金属沾污。随便找几本工艺资料，这些都会有解释。 |
5楼2009-12-12 06:44:14
