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【半导体薄膜代工】ALD/CVD/磁控溅射/热蒸发全工艺
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微纳代工服务说明如下: 服务范围 ◆ ALD服务(芬兰beneq机台:8inch/4台):Al2O3、SiO2、ZnO 、HfO2、ZrO2、In2O3、TiO2、AlN、TiN、Ga2O3、Y2O3、Pt。每炉样品尺寸8inch以内。以上的混合物也都可以做,如HZO、IGZO等。 ◆ ALD服务(芬兰beneq机:12inch/1台):Al2O3、TiO2,每炉可以12片4inch或者6片8inch。 ◆ CVD服务(日本爱发科大型机台):SiO2、SiN ,样品尺寸8inch以内。 ◆ 热蒸发:Cu、Ni、Al、Ag、Au,样品尺寸4inch以内。 ◆ 磁控溅射(日本爱发科大型机台):ITO、IGZO、Mo、Ti、Al 、Au、Pt,样品尺寸6inch以内。 设备优势 ● 采用半导体级双腔体设计,大幅缩短吹扫时间,降低类CVD反应,解决金属形变及析出问题带来的工艺问题 ● 可以针对不同形状的样品定制不同的内腔体实现不同的科研目标 ● 腔体GDU前驱体快速阻断设计提高生长质量 ● 热源采用金属热辐射设计,保证温度的一致性防止管路堵塞 ● 高度开放的recipe,例如泵抽调速或暂停/多喷头模式,适应不同的科研需要,最大权限开放给科研人员 ● 8 inch硅片氧化铝非均匀性0.5%以内 样品性质(必填) 为方便技术团队判断是否可以进行代工服务,提高沟通效率,请您务必复制下方信息,填写后发送至公司邮箱(邮箱见下方特别说明) 1.尺寸(inch/mm) 2.厚度(μm) 3.沉积材质(需镀膜的种类) 4.基底材质 5.样品形状(晶圆/方形片/异形片) 样品提示 ● 对于ALD工艺样品必须彻底清洗干净,需耐温,无毒,无易分解、无易扩散(如Cu),无粉末,禁止用mark笔标记样品!禁止有任何有机物! ● 样品尽量采用洁净真空双层包装寄送!样品不能有无尘纸等接触表面,不能用双面胶带固定(无法取下),采用硅片盒和自吸附盒子! ● 因样品不耐温或者工艺不兼容导致的样品损坏,卖方不承担任何赔偿责任。样品通过顺丰寄送,建议声明样品总价值保价,保价费由买方承担。 特别说明 ● 提供增值税普通发票,款到开始执行工艺。 ● 如需服务,请发送样品相关信息至邮箱:jenny@atomicald.com ● 兼售ALD设备——双腔体喷淋盘式设备,多所高校和研究所已采用,领先业内水准!如需可联系上方邮箱。 技术交流 ● TEL:18817872921 丁 上海埃拓米半导体有限公司 |
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