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mutou-wawa

木虫 (正式写手)

贫民

应助: 0 (幼儿园)
金币: 2388
帖子: 545
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虫号: 658173
注册: 2008-11-19
性别: MM
专业: 材料物理化学

[交流] 【求助】磁控溅射靶材起辉，但是不正常！已有1人参与

我用磁控溅射镀磁性薄膜！以前这个参数是可以镀的，但是后来我买了块新的，这块就不正常可。自偏压很大，但是起辉并不是很明显。。。
各种条件我已经试过！
我真的是搞不明白了，希望同行与我交流一下！
谢谢指教！

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1楼2009-11-03 20:15:48

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wfliu

金虫 (小有名气)

应助: 1 (幼儿园)
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虫号: 920552
注册: 2009-12-05
专业: 凝聚态物性 II ：电子结构

可能性分析

★ ★ ★ ★ ★
mutou-wawa(金币+1):谢谢参与
小木虫:)(金币+4,VIP+0):3q 12-10 09:34

1.磁控溅射的磁场被很大程度的约束在磁性靶材里，在靶材外空间用于约束电子的磁场很弱，等离子体密度较低，对靶材溅射的离子数减少，导致磁性薄膜的沉积速率非常低。
2.溅射率过低。靶做薄点，磁场强点。
3.可能是溅射速率低造成的，可以试试提高溅射功率，或延长溅射时间。
4.衬底与膜材料不匹配。磁性材料最好用PLD来做，激光不受磁场影响。