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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 工艺技术 » 膜技术 » AZ5214E图案化+Pt溅射后lift off困境，急求良策
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喔喔窝er

新虫 (初入文坛)

[求助] AZ5214E图案化+Pt溅射后lift off困境，急求良策 已有1人参与

各位虫友，我最近先使用AZ5214E对聚酰亚胺（PI）表面进行图案化处理，随后进行磁控溅射，具体为先溅射10nm的Ti，再溅射90nm的Pt。在图案化完成后，将样品浸泡在丙酮中进行lift off操作，浸泡一整晚后，第二天再进行超声处理。然而，即便如此，样品上仍有部分区域超声后无法完全清洁干净，于是我就用棉签去擦拭。可是在擦拭过程中，我发现有些地方的Pt会被直接擦掉。通过显微镜观察，我发现那些会被擦掉Pt的区域，其表面都存在褶皱（如图1右侧所示），而左侧平整的区域Pt则不会被擦掉。
   之前采用相同的图案化工艺，用电子束蒸镀一层10nm的Cr和50nm的Au，lift off过程进行得很顺利。但是在做第二层gate修饰的时候（Au表面镀Pt），使用磁控溅射10nm的Ti，再溅射90nm的Pt也会出现起褶的情况（图2）
   所以，我想请教各位虫友，为什么会出现这种情况呢？是因为Ti和衬底结合的不紧密还是衬底没有洗干净亦或者是光刻这一步没有做好呢？
   

         PS. 聚酰亚胺的清洗步骤：先用丙酮清洗，再用水超声处理。显微镜观察表面仍然会残留一些白色的细小颗粒，即使在显影完成后，这些白色小点颗粒物依然清晰可见。
        光刻胶的旋涂工艺参数为500r/5s-3500r/25s，前烘温度为110℃，时间为3分钟

谢谢大家！

AZ5214E图案化+Pt溅射后lift off困境，急求良策


AZ5214E图案化+Pt溅射后lift off困境，急求良策-1

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1楼 2025-02-28 10:06:36
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NanoPi

银虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

建议增加PR膜厚，不要烘膜处理；

可以代微纳加工，希望对你有帮助。
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2楼2025-03-07 16:14:27
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喔喔窝er

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by NanoPi at 2025-03-07 16:14:27
建议增加PR膜厚，不要烘膜处理；

可以代微纳加工，希望对你有帮助。

谢谢老板生意兴隆。已经解决了(???)??
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3楼2025-03-15 11:27:13
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