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WS2制备 已有1人参与
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大神们，小弟最近用硫代乙酰胺和WCl6制备了WS2，但合成后ppl高压釜总洗不干净，有股恶臭味。目前已经尝试过利用乙醇，热水，低浓度HF溶液以及CS2浸泡洗涤，但都没啥明显效果。 后续用同一个高压釜制备其他材料如V2O5的时候，离心洗涤时的液体也有很重的臭味。一方面我担心中毒，另一方面我更担心被实验室其他人投诉。希望大家指点下。 涉及的反应如图示，考虑用热水溶解WS2，CS2溶解S，但不清楚臭味来源  发自小木虫手机客户端 |
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3楼2024-12-31 12:19:53
13838238074
新虫 (初入文坛)
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硫代乙酰胺和六氯化钨（WCl₆）反应生成二硫化钨（WS₂）后，反应釜内残留物的恶臭可能源于以下因素： 1. 未反应的硫代乙酰胺 特点：硫代乙酰胺分解会产生恶臭气体，例如硫化氢（H₂S）和其他含硫化合物。 处理方法： 用稀酸（如稀硝酸或盐酸）清洗釜体内壁，酸可中和部分残余的碱性或硫化物。 用通风设备确保清洗过程中有害气体及时排出。 2. 反应副产物残留 特点：该反应可能生成多种副产物，如硫化氢、硫化物、硫醇类化合物，均具有刺鼻气味。 处理方法： 用稀碱液（如1-5%的氢氧化钠溶液）清洗，溶解并中和含硫副产物。 之后用大量去离子水冲洗干净。 3. WS₂粉末吸附气味物质 特点：WS₂表面可能吸附反应中挥发的含硫化合物。 处理方法： 用有机溶剂（如乙醇或丙酮）多次冲洗，去除吸附物。 若有残留可尝试弱氧化剂（如3-5%的双氧水）处理，但需注意釜材的耐氧化性。 4. 釜体表面处理不彻底 特点：釜内壁可能有微小裂缝或孔洞，残留物难以清除。 处理方法： 用高温蒸汽冲洗，以加速气味物质挥发。 若恶臭长期存在，建议将釜体拆解清洗，并检查釜体内衬或涂层是否损坏。 5. 清洗剂选择不当 特点：一些传统清洗剂（如单纯的水或中性清洗剂）可能无法有效去除含硫化合物。 推荐清洗步骤： 机械清理：用柔软的塑料刮刀清除釜内表面残渣。 稀碱液清洗：用稀氢氧化钠或碳酸钠溶液浸泡釜体，持续搅拌。 稀酸冲洗：用稀盐酸中和，最后用大量去离子水冲洗至中性。 异味检查：若有残余气味，可尝试臭氧水或紫外线灯杀菌，分解残留挥发物。 6. 后续维护建议 定期清洗反应釜，减少残留堆积。 在反应后立即清理，并使用通风良好的环境。 检查密封件和阀门是否存在气味滞留区域，必要时更换。 这些措施可有效去除恶臭，避免对设备和环境的长期影响。 |
2楼2024-12-31 10:52:33
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