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新虫 (小有名气)

[交流] WS2制备 已有1人参与

大神们,小弟最近用硫代乙酰胺和WCl6制备了WS2,但合成后ppl高压釜总洗不干净,有股恶臭味。目前已经尝试过利用乙醇,热水,低浓度HF溶液以及CS2浸泡洗涤,但都没啥明显效果。
后续用同一个高压釜制备其他材料如V2O5的时候,离心洗涤时的液体也有很重的臭味。一方面我担心中毒,另一方面我更担心被实验室其他人投诉。希望大家指点下。
涉及的反应如图示,考虑用热水溶解WS2,CS2溶解S,但不清楚臭味来源

WS2制备

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13838238074

新虫 (初入文坛)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
硫代乙酰胺和六氯化钨(WCl₆)反应生成二硫化钨(WS₂)后,反应釜内残留物的恶臭可能源于以下因素:

1. 未反应的硫代乙酰胺
特点:硫代乙酰胺分解会产生恶臭气体,例如硫化氢(H₂S)和其他含硫化合物。
处理方法:
用稀酸(如稀硝酸或盐酸)清洗釜体内壁,酸可中和部分残余的碱性或硫化物。
用通风设备确保清洗过程中有害气体及时排出。
2. 反应副产物残留
特点:该反应可能生成多种副产物,如硫化氢、硫化物、硫醇类化合物,均具有刺鼻气味。
处理方法:
用稀碱液(如1-5%的氢氧化钠溶液)清洗,溶解并中和含硫副产物。
之后用大量去离子水冲洗干净。
3. WS₂粉末吸附气味物质
特点:WS₂表面可能吸附反应中挥发的含硫化合物。
处理方法:
用有机溶剂(如乙醇或丙酮)多次冲洗,去除吸附物。
若有残留可尝试弱氧化剂(如3-5%的双氧水)处理,但需注意釜材的耐氧化性。
4. 釜体表面处理不彻底
特点:釜内壁可能有微小裂缝或孔洞,残留物难以清除。
处理方法:
用高温蒸汽冲洗,以加速气味物质挥发。
若恶臭长期存在,建议将釜体拆解清洗,并检查釜体内衬或涂层是否损坏。
5. 清洗剂选择不当
特点:一些传统清洗剂(如单纯的水或中性清洗剂)可能无法有效去除含硫化合物。
推荐清洗步骤:
机械清理:用柔软的塑料刮刀清除釜内表面残渣。
稀碱液清洗:用稀氢氧化钠或碳酸钠溶液浸泡釜体,持续搅拌。
稀酸冲洗:用稀盐酸中和,最后用大量去离子水冲洗至中性。
异味检查:若有残余气味,可尝试臭氧水或紫外线灯杀菌,分解残留挥发物。
6. 后续维护建议
定期清洗反应釜,减少残留堆积。
在反应后立即清理,并使用通风良好的环境。
检查密封件和阀门是否存在气味滞留区域,必要时更换。
这些措施可有效去除恶臭,避免对设备和环境的长期影响。
2楼2024-12-31 10:52:33
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jejdnnd

新虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by 13838238074 at 2024-12-31 10:52:33
硫代乙酰胺和六氯化钨(WCl₆)反应生成二硫化钨(WS₂)后,反应釜内残留物的恶臭可能源于以下因素:

1. 未反应的硫代乙酰胺
特点:硫代乙酰胺分解会产生恶臭气体,例如硫化氢(H₂S)和其他含 ...

感谢大佬
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3楼2024-12-31 12:19:53
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