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[交流]
【交流】循环伏安法中扫速与电流电位的关系
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请问:在循环伏安法中,扫速增大,其对应的峰电流一定增大吗?有没有例外呢?若有那可能是因为什么而造成的?比如说:扫速增大,而对应的峰电流却忽大忽小的,要怎么办? 急啊!谢谢! [ Last edited by zlin on 2009-10-29 at 13:52 ] |
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7楼2009-11-02 12:17:03
紫魂
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2楼2009-10-29 14:04:19
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whblql(金币+1,VIP+0): 10-30 13:04
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一般来讲,还原峰或者氧化峰,仅仅是对应着电化学反应,而且体系的扩散较好,或者有搅拌的话。 扫描速率越高,峰所对应的电化学反应速率越高,一般来讲,峰电流越高。 但是,如果峰是由电化学反应和其他前置或者后置化学转化步骤叠加,还有吸附峰等叠加的话,此外,电极表面会有不溶性的反应产物出现,都会对峰值电流产生影响。 这就要具体问题具体分析了。 以吸附峰为例,我个人做得也不多,我个人推断,由于电极表面的面积一定,如果吸附峰的高度,貌似并不受扫描速率的明显影响,如果您体系有强烈的吸附效应,那么峰电流,就可能不是随着扫描速率的增加而增加。 此外,电极表面的不溶性的产物大量析出,也会对界面上的电流产生较大的影响。 如果产物增多,电极的表面可能变得粗糙,电极上的真实表面积增大,即使扫描速率增加,核算下来的电流密度也可能会发生改变。 当然,还可能有别的原因,我只是给点建议,如果不正之处,请大家指出。 |

3楼2009-10-29 14:23:14
longan-289
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4楼2009-10-29 22:18:32













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