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whblql

新虫 (小有名气)

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[交流] 【交流】循环伏安法中扫速与电流电位的关系

请问：在循环伏安法中，扫速增大，其对应的峰电流一定增大吗？有没有例外呢？若有那可能是因为什么而造成的？比如说：扫速增大，而对应的峰电流却忽大忽小的，要怎么办？
急啊！谢谢！

[ Last edited by zlin on 2009-10-29 at 13:52 ]

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1楼 2009-10-29 12:58:33

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土纸

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★
whblql(金币+1,VIP+0): 10-30 13:04

一般来讲，还原峰或者氧化峰，仅仅是对应着电化学反应，而且体系的扩散较好，或者有搅拌的话。

扫描速率越高，峰所对应的电化学反应速率越高，一般来讲，峰电流越高。

但是，如果峰是由电化学反应和其他前置或者后置化学转化步骤叠加，还有吸附峰等叠加的话，此外，电极表面会有不溶性的反应产物出现，都会对峰值电流产生影响。

这就要具体问题具体分析了。

以吸附峰为例，我个人做得也不多，我个人推断，由于电极表面的面积一定，如果吸附峰的高度，貌似并不受扫描速率的明显影响，如果您体系有强烈的吸附效应，那么峰电流，就可能不是随着扫描速率的增加而增加。

此外，电极表面的不溶性的产物大量析出，也会对界面上的电流产生较大的影响。

如果产物增多，电极的表面可能变得粗糙，电极上的真实表面积增大，即使扫描速率增加，核算下来的电流密度也可能会发生改变。

当然，还可能有别的原因，我只是给点建议，如果不正之处，请大家指出。