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Alicat（艾里卡特）：精确流量和压力控制 | CVD（化学气相沉积）
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化学气相沉积（CVD）是一种薄膜工艺，化学气相沉积是反应物质在气态条件下发生化学反应,生成固态物质沉积在加热的固态基体表面,进而制得固体材料的工艺技术。化学气相沉积的方法很多，包括MOCVD、ALD、CVI和PECVD等。有机金属化学气相沉积（MOCVD）是把反应物质全部以有机金属化合物的气体分子形式，用H2作载带气体送到反应室,进行热分解反应而形成化合物半导体的一种新技术。 Alicat（艾里卡特）的质量流量和压力控制器非常适用于MOCVD 系统，因为捕获的前体和载气的流量和压力必须经过精确控制，以达到理想操作效率。在这里，我们将讨论几个MOCVD系统设计选项，Alicat 设备为重要的MOCVD变量（如气体流量、压力等）提供高重复性、快速和闭环控制。 具体看这篇文章：https://mp.weixin.qq.com/s/Nu0oZLt7pTLkXtIOSO_JPA |
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