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Alicat(艾里卡特):精确流量和压力控制 | CVD(化学气相沉积)
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化学气相沉积(CVD)是一种薄膜工艺,化学气相沉积是反应物质在气态条件下发生化学反应,生成固态物质沉积在加热的固态基体表面,进而制得固体材料的工艺技术。化学气相沉积的方法很多,包括MOCVD、ALD、CVI和PECVD等。有机金属化学气相沉积(MOCVD)是把反应物质全部以有机金属化合物的气体分子形式,用H2作载带气体送到反应室,进行热分解反应而形成化合物半导体的一种新技术。 Alicat(艾里卡特)的质量流量和压力控制器非常适用于MOCVD 系统,因为捕获的前体和载气的流量和压力必须经过精确控制,以达到理想操作效率。在这里,我们将讨论几个MOCVD系统设计选项,Alicat 设备为重要的MOCVD变量(如气体流量、压力等)提供高重复性、快速和闭环控制。 具体看这篇文章:https://mp.weixin.qq.com/s/Nu0oZLt7pTLkXtIOSO_JPA |
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wszyq1985(金币+2): 谢谢参与
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