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uzifaker

新虫 (初入文坛)

[交流] 求助:castep计算的SnTe能带结构与报道文献不符合 已有1人参与

最近使用Materials studio的castep计算SnTe这类半导体的一些能带和DOS,目的是能够实现接近文献报道的能带结构(重要参考值:带隙和∆EL-Σ),按照多篇文献中给出的参数 和 自己优化的截断能/K网格参数,分别计算了单胞和2x2x2超胞SnTe的能带结构,得到的单胞带隙的值能够与报道的接近,但是能带细节结构仍然与报道文献结果不符,对此问题进行了大量的网络查询/文献查阅/参数变化但都未能解决此问题;具体细节描述如下,希望有大佬可以帮忙解答一下:

1. SnTe单胞计算,原始晶胞参数:Sn4Te4、Fm3m、a=6.32751,先进行了几何优化—参数(默认fine设置):312.9 ev Energy cutoff + 2x2x2 k-points,优化后晶胞参数a=6.33705;然后对优化后晶体结构进行了能带和DOS计算—参数:350 ev Energy cutoff + 4x4x4 k-points(来源于文献),计算的能带结构如下左1图所示。
另外,进一步调整了不同的截断能和k网格大小以尝试结果此问题,但是仅仅带隙发生了变化,单胞结果的能带图中圈出能带结构不变,总是出现K高对称点对应的能量高于Σ的,导致能带结构与文献报道结果不符,请问这个是什么问题导致的呢?

2.同步,进行了SnTe 2x2x2超胞的计算,根据体积偏差进行了截断能和k网格的优化,最后选择了400ev + 4x4x4分别进行了几何优化和能带计算,结果如下左2图,这次不仅能带结构变形,而且带隙还出现在了Γ点(其他截断能和k网格参数也是如此),这是什么原因啊?

十分感谢
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echo1994

禁虫 (知名作家)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
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2楼2024-06-20 19:09:04
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uzifaker

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by echo1994 at 2024-06-20 19:09:04
截断能和K点用于计算电子性质远远不够,最后用H杂化泛函计算

对原胞进行了HSE06杂化泛函计算,能带结构细节能量有所变化,但是能带趋势仍然保持不变,仍然没有是K高对称点对应的能量高于Σ的,一般计算出来的高对称点对应的能量相对大小不对(即能谷不对)可能是什么原因呢
3楼2024-06-21 14:35:36
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