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[求助]
介孔硅球在碳酸钠刻蚀后介孔通道内还有模板剂吗?
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我正在做:以实心二氧化硅(sSiO2)为核心模版,CTAB为介孔模版制备实心介孔硅,再用碳酸钠溶蚀sSiO2,制备HMSNs的课题。制备成功HMSNs后还需要在做合成,文献表示介孔通道里面是否有CTAB对产物有影响。 想求助各位大佬:刻蚀后HMSNs介孔通道内还会残留有CTAB吗?如果没有,有什么办法能再掺杂进去吗? |
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2楼2024-10-18 12:11:58














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