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CTAB为模板介孔二氧化硅煅烧问题
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AQOURSSUKI
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CTAB为模板介孔二氧化硅煅烧问题
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CTAB为模板介孔二氧化硅煅烧后,部分产物发黑且超声也无法在乙醇中溶解,请问是生成碳化硅了吗,求助各位大佬
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1楼
2024-01-18 00:52:16
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AQOURSSUKI
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7楼
:
Originally posted by
jiagle
at 2024-01-18 08:20:52
不可能生成碳化硅。
不溶于乙醇很正常,SiO2本不该溶于乙醇。
黑色物质倒有可能是积炭。
请问有办法通过温度控制避免吗
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8楼
2024-01-18 09:41:27
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jiagle
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2024-01-18 08:55:50
不可能生成碳化硅。
不溶于乙醇很正常,SiO2本不该溶于乙醇。
黑色物质倒有可能是积炭。
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7楼
2024-01-18 08:20:52
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2024-01-19 09:28:08
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8楼
:
Originally posted by
AQOURSSUKI
at 2024-01-18 09:41:27
请问有办法通过温度控制避免吗
...
富氧灼烧就可以清除炭
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9楼
2024-01-19 08:16:55
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9楼
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Originally posted by
jiagle
at 2024-01-19 08:16:55
富氧灼烧就可以清除炭...
谢谢大佬解答,但是我们实验室没有氧气罐,请问大佬先在250°左右碳化3小时,再在550°煅烧3小时可以更有效去除CTAB吗,谢谢大佬了
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10楼
2024-01-19 11:25:33
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tzynew
2楼
2024-01-18 00:56
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T07192022
3楼
2024-01-18 01:18
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萤火虫之谷
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2024-01-18 02:05
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gordon399
5楼
2024-01-18 03:46
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XG-WUST
6楼
2024-01-18 04:01
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