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磁控溅射 已有1人参与
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有没有用射频磁控溅射做氧化钇薄膜的大佬，我用的氧化钇陶瓷靶材，射频功率在110w，溅射气压在0.5pa，衬底温度为200摄氏度，试过纯氩气也试过即通氩气也通氧气，但是每次去做xrd的时候都看不出来有氧化钇的峰，这是什么原因啊，也退火了的 发自小木虫IOS客户端 |
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