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磁控溅射 已有1人参与
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有没有用射频磁控溅射做氧化钇薄膜的大佬,我用的氧化钇陶瓷靶材,射频功率在110w,溅射气压在0.5pa,衬底温度为200摄氏度,试过纯氩气也试过即通氩气也通氧气,但是每次去做xrd的时候都看不出来有氧化钇的峰,这是什么原因啊,也退火了的 发自小木虫IOS客户端 |
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