| 查看: 533 | 回复: 1 | |||
[交流]
磁控溅射 已有1人参与
|
|
有没有用射频磁控溅射做氧化钇薄膜的大佬，我用的氧化钇陶瓷靶材，射频功率在110w，溅射气压在0.5pa，衬底温度为200摄氏度，试过纯氩气也试过即通氩气也通氧气，但是每次去做xrd的时候都看不出来有氧化钇的峰，这是什么原因啊，也退火了的 发自小木虫IOS客户端 |
回复此楼» 猜你喜欢
PDF#71-0946和PDF#71-0945带晶面的标准卡片
已经有4人回复
-
功能晶体材料知识库，共同交流进步
已经有22人回复
-
冶金与矿业论文润色/翻译怎么收费?
已经有131人回复
-
JOM投稿后只能通讯作者系统里面显示吗
已经有7人回复
-
矿物加工博士申请
已经有1人回复
598878157
版主 (文学泰斗)
rky
- 应助: 368 (硕士)
- 贵宾: 3.087
- 金币: 103389
- 散金: 21
- 红花: 155
- 帖子: 58317
- 在线: 1140.2小时
- 虫号: 614840
- 注册: 2008-09-28
- 性别: GG
- 专业: 固体无机化学
- 管辖: 外语学习
2楼2023-10-14 09:48:34