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是粒栗啊

新虫 (初入文坛)

[求助] 光刻 已有2人参与

一个镀了二氧化硅的铌酸锂晶圆,光刻的时候总是吸附到掩模板上,导致光刻胶被粘掉,无法光刻无法对准,3612的胶,烘烤时间75℃/20min,真空度正常,有哪位大佬指导一下,实在找不到问题所在了?

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无聊的刁民

木虫 (著名写手)

不明觉厉,围观涨涨人气
颗粒分散与基材表面改性
2楼2023-10-12 14:32:48
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草也花开

金虫 (知名作家)

疏影@暗香

【答案】应助回帖

基底片吸附到掩膜版上,小概率事件,经常出现会很奇怪。片子翘曲问题?换个片子,换不同基底的片子,换不同光刻机,分别试下效果呢~
3楼2023-10-15 15:01:49
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sdnuzxn

新虫 (小有名气)

是不是与掩模版贴的太近了,二元曝光机可以在掩模版和器件之间通气使二者分离。
4楼2023-10-15 16:51:19
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mixele

新虫 (正式写手)

贴合一层涂布有离型剂的高透光膜,考虑一下

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5楼2023-10-23 11:47:50
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chipyutek

捐助贵宾 (小有名气)


不接触曝光呢,可以接近式模式

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6楼2023-11-17 22:07:09
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sxjjason

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

要不要试试烘涂一层HMDS增加粘附性?或者曝光时稍微离板有点距离
7楼2023-11-20 20:30:09
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