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【悬赏金币】回答本帖问题，作者是粒栗啊将赠送您 5 个金币

是粒栗啊

新虫 (初入文坛)

[求助] 光刻 已有2人参与

一个镀了二氧化硅的铌酸锂晶圆，光刻的时候总是吸附到掩模板上，导致光刻胶被粘掉，无法光刻无法对准，3612的胶，烘烤时间75℃/20min，真空度正常，有哪位大佬指导一下，实在找不到问题所在了？

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1楼 2023-10-12 11:50:52
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无聊的刁民

木虫 (著名写手)
不明觉厉，围观涨涨人气
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颗粒分散与基材表面改性
2楼2023-10-12 14:32:48
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草也花开

金虫 (知名作家)

疏影@暗香

【答案】应助回帖

基底片吸附到掩膜版上，小概率事件，经常出现会很奇怪。片子翘曲问题？换个片子，换不同基底的片子，换不同光刻机，分别试下效果呢~
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3楼2023-10-15 15:01:49
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sdnuzxn

新虫 (小有名气)
是不是与掩模版贴的太近了，二元曝光机可以在掩模版和器件之间通气使二者分离。
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4楼2023-10-15 16:51:19
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mixele

新虫 (正式写手)
贴合一层涂布有离型剂的高透光膜，考虑一下

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5楼2023-10-23 11:47:50
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chipyutek

捐助贵宾 (小有名气)
不接触曝光呢，可以接近式模式

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6楼2023-11-17 22:07:09
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sxjjason

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

要不要试试烘涂一层HMDS增加粘附性？或者曝光时稍微离板有点距离
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7楼2023-11-20 20:30:09
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