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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » 【求助】求助：要做AFM前硅片怎么处理和旋涂？
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wentianxiang

★
heavence007(金币+1):谢谢参与
在超声波中清晰，洗涤液：1.氢氟酸（去除表面氧化物）；2丙酮（）去除表面油脂；3无水乙醇（除去残余的氢氟酸和丙酮）；4去离子水（除去乙醇）
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11楼2009-12-12 08:24:58
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wentianxiang

自己顶一下
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12楼2009-12-12 08:25:25
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20465200

银虫 (小有名气)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
今天用胶带撕云母片的时候，由于片的边缘有毛刺，结果撕得不好，好像掉的一层没有完全掉下来。我在上面滴了几微升的多糖液，不知能不能有理想结果。
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13楼2010-04-29 22:17:32
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wuhang87

铜虫 (初入文坛)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
我做石墨烯用的是云母片 开始用的硅片不好用
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早发文章，早升天。
14楼2010-04-30 21:50:46
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tickychao206

银虫 (小有名气)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
我的是直接丙酮酒精超声，再去离子水和吹干
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正心修身！
15楼2010-05-01 08:05:58
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zhengzhaozhu

金虫 (正式写手)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
呵呵，旋涂还是选择硅片好一些吧，我可能见识少，我没有见过大的云母片啊。呵呵
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16楼2010-05-01 09:04:51
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ye123456

木虫 (小有名气)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
硅片一般都很平整的，处理硅片跟要旋涂的材料有关系，如果没什么要求就用乙醇超声清洗就行了，如果需要亲水处理，可以用硫酸/过氧化氢，或者氨水/过氧化氢处理
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17楼2010-05-01 13:46:18
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congyu_2007

金虫 (著名写手)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
你用的Si片应该是单面抛光的，由于抛光的程度不同，所以价格自然也就不同。一般你跟人家说：我们要Si片是镀膜用的。他们一般就明白该给你什么样的Si片了，你可以联系合肥科晶，他们卖各种Si片。
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如果能追随理想而生活，本着正直自由的精神，勇于直前的毅力，诚实不自欺的思想而行，则定能臻于至善至美的境地。
18楼2010-05-01 20:39:17
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fcg1282

铜虫 (小有名气)
我们最近也碰到这问题
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19楼2010-05-01 23:14:10
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plum8736

铁杆木虫 (职业作家)

快乐家族--科比的偶像
引用回帖:
Originally posted by heavence007 at 2009-09-16 18:47:11:
最近准备做AFM，样品需要旋涂在硅片上，硅片需要预处理一下，不知道怎么处理，求助一下各位！
还有我需要用的硅片应该是怎样的？只是用来做衬底的。今天问了下有很多种价格，都说很平整，但是为什么价格差那么多 ...

RCA标准清洗法是1965年由Kern和Puotinen 等人在N.J.Princeton的RCA实验室首创的，并由此而得名。RCA是一种典型的、至今仍为最普遍使用的湿式化学清洗法，该清洗法主要包括以下几种清洗液。
（1）SPM：H2SO4 /H2O2 120～150℃ SPM具有很高的氧化能力，可将金属氧化后溶于清洗液中，并能把有机物氧化生成CO 2和H2O。用SPM清洗硅片可去除硅片表面的重有机沾污和部分金属，但是当有机物沾污特别严重时会使有机物碳化而难以去除。
（2）HF(DHF)：HF(DHF) 20～25℃ DHF可以去除硅片表面的自然氧化膜，因此，附着在自然氧化膜上的金属将被溶解到清洗液中，同时DHF抑制了氧化膜的形成。因此可以很容易地去除硅片表面的Al，Fe，Zn，Ni等金属，DHF也可以去除附着在自然氧化膜上的金属氢氧化物。用DHF清洗时，在自然氧化膜被腐蚀掉时，硅片表面的硅几乎不被腐蚀。
（3）APM (SC-1）：NH4OH/H2O2 /H2O 30～80℃ 由于H2O2的作用，硅片表面有一层自然氧化膜(SiO2)，呈亲水性，硅片表面和粒子之间可被清洗液浸透。由于硅片表面的自然氧化层与硅片表面的Si被NH 4OH腐蚀，因此附着在硅片表面的颗粒便落入清洗液中，从而达到去除粒子的目的。在 NH4OH腐蚀硅片表面的同时，H2O 2又在氧化硅片表面形成新的氧化膜。
（4）HPM (SC-2)：HCl/H2O2/H2 O 65～85℃ 用于去除硅片表面的钠、铁、镁等金属沾污。在室温下HPM就能除去Fe和Zn。
清洗的一般思路是首先去除硅片表面的有机沾污，因为有机物会遮盖部分硅片表面，从而使氧化膜和与之相关的沾污难以去除；然后溶解氧化膜，因为氧化层是“沾污陷阱”，也会引入外延缺陷；最后再去除颗粒、金属等沾污，同时使硅片表面钝化

我们都是用浓硫酸双氧水７：３沸水浴３０分钟
H2O2/H2SO4(3:7)超声20分钟，超纯水洗，N2吹干
H2O2/H2SO4=3:7在90摄氏度煮一小时，冷却后用水超声清洗三遍，氮气吹干就可以，处理后的表面是羟基化的表面
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20楼2010-05-03 18:38:09
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