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whch_66金虫 (正式写手)
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[交流]
【请教】关于除去无机模板的试剂问题
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最近做了两种体系的纳米碳材料，一是由SiO2模板体系，另一种是AlPO模板体系。但合成的碳材料比表面积最高不到500，原因之一可能是无机模板去除不彻底，我用的是6%HF浸泡24h、48h，最长达72h。 请教各位虫友： 1.AlPO模板剂可不可以用HF除去？如果可以，多大浓度HF？浸泡时间多长合适？浸泡时要不要搅拌？如果不可以，最佳的试剂是？ 2.文献中去除SiO2模板基本都用HF，但浓度各异。最佳去除浓度是？最佳时间？最佳方式（浸泡还是搅拌）？ 3.怎么提高比表面积？ 您的关注是我最大的荣幸！ [ Last edited by wdwsnnu on 2009-9-17 at 13:12 ] |
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