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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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whch_66

金虫 (正式写手)

[交流] 【请教】关于除去无机模板的试剂问题

最近做了两种体系的纳米碳材料,一是由SiO2模板体系,另一种是AlPO模板体系。但合成的碳材料比表面积最高不到500,原因之一可能是无机模板去除不彻底,我用的是6%HF浸泡24h、48h,最长达72h。
    请教各位虫友:
       1.AlPO模板剂可不可以用HF除去?如果可以,多大浓度HF?浸泡时间多长合适?浸泡时要不要搅拌?如果不可以,最佳的试剂是?
       2.文献中去除SiO2模板基本都用HF,但浓度各异。最佳去除浓度是?最佳时间?最佳方式(浸泡还是搅拌)?
       3.怎么提高比表面积?

       您的关注是我最大的荣幸!

[ Last edited by wdwsnnu on 2009-9-17 at 13:12 ]
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ke30ke

木虫之王 (文坛精英)


whch_66(金币+1,VIP+0):谢谢!用浓盐酸处理多长时间? 9-16 20:39
AlPO用HF不行吧,我们用的是浓盐酸:
我们按照09年CC上做磷酸铝纳米卷的方法,800度碳化后,用浓盐酸处理,
得到了碳的纳米卷的结构
2楼2009-09-16 19:15:49
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whch_66

金虫 (正式写手)

楼上的能告诉我09年CC的哪一期吗?
3楼2009-09-16 21:42:03
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Bequiet8595

银虫 (小有名气)


whch_66(金币+1,VIP+0):具体浓度多大合适?相应的最佳时间? 9-17 11:45
溶SiO2模板HF溶液浸泡即可,当然浓度不能很大,那样会破坏一些结构
4楼2009-09-17 08:54:02
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镜花水月1397

铁杆木虫 (职业作家)


wdwsnnu(金币+0,VIP+0):不应定 9-17 13:12
whch_66(金币+1,VIP+0):xiexie 11-17 11:07
好像都是通过高温煅烧除去吧
5楼2009-09-17 12:38:54
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