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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术讨论 » 【求助】射频源自偏压问题
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moxming

金虫 (小有名气)

[交流] 【求助】射频源自偏压问题

实验室的磁控溅射设备，有一个自偏压，还有一个Ua,Ia，不知道其中有什么联系和区别？以及为什么要有入射功率和反射功率这个设置呢？特意请教各位虫友，望高人指教一二啊!
ps：有射频电源的原理介绍么？能给我共享一份吗？
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1楼 2009-09-12 17:01:40
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jsszwutao

铁杆木虫 (小有名气)
★ ★
moxming(金币+1,VIP+0): 9-13 09:44
骑着蜗牛追火箭(金币+1):谢谢应助
我也做这个的，反射功率尽量要小，实际功率=入射功率-反射功率=Ua*Ia*效率
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2楼2009-09-12 20:43:57
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ben1986

铜虫 (小有名气)
★ ★ ★
moxming(金币+2,VIP+0): 9-13 09:44
骑着蜗牛追火箭(金币+1):谢谢应助
这个你得查一下资料
我只知道Ua是板压，Ia是板流，板压*板流=总功率，总功率=入射功率+反射功率
射频溅射是需要调节匹配器使电源与溅射环境匹配，即入射功率为最大，反射功率为零。
自偏压的感念只是马马虎虎懂一点讲不清，给你传个资料。
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3楼2009-09-12 20:47:05
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ben1986

铜虫 (小有名气)
★ ★
moxming(金币+2,VIP+0): 9-13 09:44
我们老板的课件，材料的溅射与薄膜生长，嘻嘻
http://d.namipan.com/d/99448b90b ... 93b122d43d789101900
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4楼2009-09-12 20:50:57
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moxming

金虫 (小有名气)
谢谢各位哈，得好好学习了~~
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5楼2009-09-13 09:45:22
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whome3923

木虫 (正式写手)
学习了
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不会游泳的鱼
6楼2009-09-13 21:04:32
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