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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 工艺技术 » 膜技术 » 光刻胶前烘不均匀的问题
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Calvin.

金虫 (小有名气)

[求助] 光刻胶前烘不均匀的问题 已有2人参与

用某光刻胶进行匀胶后，肉眼可见，基本已匀胶均匀，整块硅片上均涂布了光刻胶。然而在前烘的过程中，将硅片放上烘胶的热板上，霎时便出现了类似光刻胶被部分蒸干的现象，硅片上很多位置裸露出硅片。
请问这是什么原因，应该如何解决呢？是匀胶转速的问题，还是烘胶温度的问题，或者说是胶本身性质的原因，应该如何对症处理？
清大神们帮忙，谢谢。
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1楼 2022-06-27 08:42:26
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zhaowenhuang

新虫 (小有名气)
可能是胶的润湿性太差，出现缩孔

发自小木虫Android客户端
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4楼2023-12-05 11:59:15
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yanyu160

银虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
1. 不确定光刻胶涂布多厚？烘烤温度多少度？
2. 有可能光刻胶的粘度太低了，然后涂布转速也低，导致涂布后硅片表面的光刻胶呈液体状态，放在热板上烘烤的时候，液体状态光刻胶骤然受热收缩。
3. 尝试方法，加热不要直接放在热板直接烘烤，用垫片与热板间隔几毫米，先预受热一段时间，等到确认光刻胶干燥之后，再把硅片放在烘板上直接烘烤。
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2楼2022-06-28 16:54:57
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核潜艇

新虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

2楼回复得有道理。此外，可能还有一个原因：硅片表面与光刻胶粘结力不够。硅片表面需要处理，或者光刻胶的粘结力需要增强。
赞一下(2人) 回复此楼
3楼2022-07-16 10:01:09
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Nihilismr

铁虫 (小有名气)
硅片要洗干净

发自小木虫Android客户端
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5楼2023-12-27 11:02:54
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