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Bluebery1

新虫 (小有名气)

[求助] ICP刻蚀Cr做掩膜的Ge,本该出现柱形结构结果却出现了凹坑

沉底Ge上镀又25nm左右的Cr掩膜,ICP刻蚀的结果预期是生成柱子,结果却生成了一个个200nm左右的凹坑。我知道刻蚀的大概原理,但是想不明白本该是柱子的东西怎么会变成凹坑,有没有可能是刻蚀条件的问题导致的呢?
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亲爱的笨小孩

银虫 (初入文坛)

最好把结果放上来才比较好分析

发自小木虫IOS客户端
习惯了
4楼2022-07-29 17:03:52
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babyoflion

金虫 (著名写手)

就是刻蚀条件引起的

发自小木虫Android客户端

» 本帖已获得的红花(最新10朵)

2楼2022-05-14 12:58:29
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Bluebery1

新虫 (小有名气)

送红花一朵
引用回帖:
2楼: Originally posted by babyoflion at 2022-05-14 12:58:29
就是刻蚀条件引起的

好的好的,感谢指点回复!
3楼2022-05-29 15:23:11
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