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【请教】原子层沉积反应，为什么每天前几组实验长出的晶体厚度较小？
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在进行ald的实验过程中，我们主要长金属氧化物晶体，但是发现在实验条件不变的情况下，每天前几组实验的膜厚度都较小，然后逐渐变大最后稳定. 请问，这是由于什么现象造成的呢？ |
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3楼2009-09-06 00:20:27
wudong863
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Coatingtech
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第一请问你是用的哪家的设备，设备不一样，自然控制，抽气，加热，脉冲系统都不一样。 第二你说的前几组，后几组试验，是不是一天要镀很多片膜，然后每片膜用的循环次数都一样？ 第三请问你的腔体一般加热到多少度？按说原子层沉积应该用后退火工艺才能得到晶态氧化物，如果你在沉积过程中就才用过高的温度，一方面很容易造成CVD效应，另一方面腔体温度波动会比较大，对沉积的速率控制不利。 后几组试验稳定还有可能是前几组温度不稳定，后期温度真正达到了需要达到的实验温度，同时温度稳定了，所以才会出现沉积速率加大，最后速率稳定。 还有真空系统，可能是真空度没有抽到合适的要求，规管一般越使用，越老化，前期的真空度可能是假象 希望我们继续交流 |
2楼2009-09-05 09:12:22