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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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super_zu

金虫 (正式写手)

[交流] 【请教】原子层沉积反应,为什么每天前几组实验长出的晶体厚度较小?

在进行ald的实验过程中,我们主要长金属氧化物晶体,但是发现在实验条件不变的情况下,每天前几组实验的膜厚度都较小,然后逐渐变大最后稳定.
请问,这是由于什么现象造成的呢?
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wudong863

金虫 (小有名气)

Coatingtech


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
第一请问你是用的哪家的设备,设备不一样,自然控制,抽气,加热,脉冲系统都不一样。
第二你说的前几组,后几组试验,是不是一天要镀很多片膜,然后每片膜用的循环次数都一样?
第三请问你的腔体一般加热到多少度?按说原子层沉积应该用后退火工艺才能得到晶态氧化物,如果你在沉积过程中就才用过高的温度,一方面很容易造成CVD效应,另一方面腔体温度波动会比较大,对沉积的速率控制不利。
后几组试验稳定还有可能是前几组温度不稳定,后期温度真正达到了需要达到的实验温度,同时温度稳定了,所以才会出现沉积速率加大,最后速率稳定。
还有真空系统,可能是真空度没有抽到合适的要求,规管一般越使用,越老化,前期的真空度可能是假象
希望我们继续交流
材料分析测试技术群:101717240。
2楼2009-09-05 09:12:22
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super_zu

金虫 (正式写手)

hi

引用回帖:
Originally posted by wudong863 at 2009-9-5 09:12:
第一请问你是用的哪家的设备,设备不一样,自然控制,抽气,加热,脉冲系统都不一样。
第二你说的前几组,后几组试验,是不是一天要镀很多片膜,然后每片膜用的循环次数都一样?
第三请问你的腔体一般加热到多少 ...

你好,我们每片的循环次数都一样,并且加热的时候都用好多sensor同时检测,还有就是我们一般腔体是250摄氏度。

数据出来后,一般是前几组膜的厚度较小,然后逐渐增大。

每天开始试验前,我都会等1个半小时,等温度稳定了才开始实验。

并且,我们腔体后部有pressure sensor到精确到m torr。 每次试验条件都一样。

谢谢您,
希望继续讨论
3楼2009-09-06 00:20:27
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