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木虫 (正式写手)

[交流] 【求助】一.单晶硅表面如何获得较厚的SiO2层二.关于旋转涂膜

我用浓硫酸、双氧水加热处理单晶硅片几个小时后跟原片电阻率没什么区别呀。什么方法能够得到较厚的SiO2层
另外，热氧化法我还没试，做过的xdjm指点一下，多谢了
还有就是我想在玻璃或是硅片上旋转涂膜，不知道用什么溶剂润湿性好，涂出来的膜均匀

1楼 2009-08-24 20:02:27

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木虫 (正式写手)

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lalahulala(金币+1,VIP+0):多谢，我现在正在烧，干氧，预得到200纳米以上的SiO2。另，我用溶剂将有机前躯体溶解得到溶液，旋转涂膜然后再热解，得到氧化物膜 8-26 15:57

直接在空气中烧不就得到SiO2层了，几十nm厚还不够吗？
甩胶要看你做什么膜了。

2楼2009-08-26 14:24:37

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lalahulala(金币+1,VIP+0):Thank you! I have got it by heating them in O2 at 1000 ℃. 9-4 09:05

it can be told by hydrophilicity.
you can also deposit a layer of SiO2 on the top of your wafer.

3楼2009-09-03 22:58:37

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