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用SiO2球为模板合成多孔碳，纯的HF酸刻蚀后的碳测XRD在17.5°出现杂峰，而不是纯碳的
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| 用SiO2球为模板合成多孔碳，纯的HF酸刻蚀后的碳测XRD在17.5°出现杂峰，而不是纯碳的？有大佬知道咋回事吗？谢谢 |
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已经有2人回复
8楼2021-11-18 09:09:23
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yjh1314clp(金币+1): 谢谢参与
yjh1314clp(金币+1): 谢谢参与
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4楼2021-11-17 21:38:18
10楼2026-09-20 17:06:01
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nono20096楼
2021-11-17 23:52
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yjh1314clp(金币+1): 谢谢参与
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tzynew3楼
2021-11-17 21:00
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yjh1314clp(金币+1): 谢谢参与
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bjdxyxy2楼
2021-11-17 21:00
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yjh1314clp(金币+1): 谢谢参与
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