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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料化学 » 用SiO2球为模板合成多孔碳，纯的HF酸刻蚀后的碳测XRD在17.5°出现杂峰，而不是纯碳的
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yjh1314clp

铁虫 (初入文坛)

[交流] 用SiO2球为模板合成多孔碳，纯的HF酸刻蚀后的碳测XRD在17.5°出现杂峰，而不是纯碳的

用SiO2球为模板合成多孔碳，纯的HF酸刻蚀后的碳测XRD在17.5°出现杂峰，而不是纯碳的？有大佬知道咋回事吗？谢谢
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1楼 2021-11-17 20:57:42
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echo1994

禁虫 (知名作家)
★
yjh1314clp(金币+1): 谢谢参与
本帖内容被屏蔽
4楼2021-11-17 21:38:18
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yjh1314clp

铁虫 (初入文坛)
引用回帖:
4楼: Originally posted by echo1994 at 2021-11-17 21:38:18
合成的是硬碳么？

算是硬碳吧
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8楼2021-11-18 09:09:23
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bjdxyxy2楼
2021-11-17 21:00   回复  
yjh1314clp(金币+1): 谢谢参与
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tzynew3楼
2021-11-17 21:00   回复  
yjh1314clp(金币+1): 谢谢参与
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xiaoqiuqiu205楼
2021-11-17 21:51   回复  
yjh1314clp(金币+1): 谢谢参与
nono20096楼
2021-11-17 23:52   回复  
yjh1314clp(金币+1): 谢谢参与
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miaojiabing7楼
2021-11-18 08:22   回复  
yjh1314clp(金币+1): 谢谢参与
zhaozj20059楼
2021-11-18 10:28   回复  
yjh1314clp(金币+1): 谢谢参与
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