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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » 硅片表面羟基化处理
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Amonx

新虫 (初入文坛)

[求助] 硅片表面羟基化处理

我主要是要硅片表面有羟基进行下面的修饰，现在做硅片处理，用氧离子清洗后呈现亲水状态，等离子功率50W，处理时间10分钟，会有亲水性，这个亲水性是表面有了羟基吗？还是必须用食人鱼溶液进行处理才能赋予表面羟基?
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1楼 2021-11-04 16:51:58
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ptldqkj

捐助贵宾 (小有名气)
氧等离子体清洗后，表面具有亲水效果，主要是因为表面有机污染被清洗，同时表面产生了羟基，材料表面能显著提高。我们实验室经常做硅片的表面处理，采用PTL-VM500型等离子清洗机。
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5楼2026-04-09 09:18:48
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dyx4366

木虫 (著名写手)
都可以

发自小木虫Android客户端
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2楼2021-11-04 17:00:57
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cneo

铜虫 (著名写手)
我也有类似的需求，通过清洗让金属和玻璃表面亲水，请教大佬有没有简单可行的办法？
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3楼2022-01-25 16:20:59
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