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硅片表面羟基化处理
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| 我主要是要硅片表面有羟基进行下面的修饰，现在做硅片处理，用氧离子清洗后呈现亲水状态，等离子功率50W，处理时间10分钟，会有亲水性，这个亲水性是表面有了羟基吗？还是必须用食人鱼溶液进行处理才能赋予表面羟基? |
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