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铜表面射频磁控溅射镀铝
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请问高手，我用射频磁控溅射的方法在铜上镀铝，真空度6*10^-4,溅射的压强为1.0pa，溅射的功率100w，靶基距8cm。溅射时间40分钟以上。分别在不同的温度下(50，100，150，200，400，500摄氏度)进行实验，每次都能正常起辉。但是沉积温度在200，400，500摄氏度的时候就是镀不上，当沉积温度是50，100，150摄氏度时就能镀上。请问高手为什么会出现这种情况呢，或者有什么解决办法吗？各位有什么经验传授一下啊！万分感激! 发自小木虫Android客户端 |
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