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刻蚀 已有1人参与
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做QLED发光器件，基板是买的ITO/Ag/ITO（ITO比较薄，大概20nm左右），需要自己裁成小片，也需要自己刻蚀。现在采用的刻蚀方法是，用透明胶带遮住不需要刻蚀掉的部分，棉签沾锌粉和盐酸擦拭基板。ITO可以被刻蚀掉，肉眼观察边缘不是很平整，但也没有严重的渗透，同时刻蚀后的基板上有划痕，每一步的操作都有戴手套，也比较注意尽量不碰有ITO的那一面，不清楚这个划痕是怎么产生的？做成器件后，器件可以被点亮，但漏电流很大，请问这是刻蚀没刻好的原因吗？有什么解决方法吗？ 发自小木虫Android客户端 |
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