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刻蚀 已有1人参与
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做QLED发光器件,基板是买的ITO/Ag/ITO(ITO比较薄,大概20nm左右),需要自己裁成小片,也需要自己刻蚀。现在采用的刻蚀方法是,用透明胶带遮住不需要刻蚀掉的部分,棉签沾锌粉和盐酸擦拭基板。ITO可以被刻蚀掉,肉眼观察边缘不是很平整,但也没有严重的渗透,同时刻蚀后的基板上有划痕,每一步的操作都有戴手套,也比较注意尽量不碰有ITO的那一面,不清楚这个划痕是怎么产生的?做成器件后,器件可以被点亮,但漏电流很大,请问这是刻蚀没刻好的原因吗?有什么解决方法吗? 发自小木虫Android客户端 |
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