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jinzhao628新虫 (初入文坛)
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请教各位纳米加工大神，为什么在Ag上镀TiO2薄膜的光谱总是和理论对不上
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结构比较简单，就是单纯的一维结构，在硅基底上先镀一层银，再镀一层TiO2 尝试过用ALD镀TiO2（前驱体为TiCl4），结果发现在高温过程后TiO2生长的很不均匀，光谱也和理论解对不上，薄膜表面存在可见的气泡 尝试过用磁控溅射镀两层结构，分别标定了折射率和厚度均没问题后，两层结构加工在一起就和理论解有极大的差别，不知为何银在可见光长波段和近红外区域的反射能力都被破坏了（靶材用的是导电的TiO2靶材，黑色，可能存在掺杂元素） 尝试过用电子束蒸镀镀双层结构，但会出现TiO2折射率偏小的问题（可能只有2.0~2.1），光谱和理论也对不上 请教一下各位大神上述加工失败的原因可能是什么，如何解决呢？ 考虑到纳米银薄膜和纳米TiO2薄膜的特性，用什么工艺加工这种结构比较合适呢？ 跪谢 |
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