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Norla新虫 (初入文坛)
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InP上PECVD法生长SiN应力问题 已有1人参与
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化合物半导体工艺大神们,有个技术问题求教一下,在InP上长SiN钝化,能扛得住500多度高温的Zn扩散不会裂开,也挡得住扩散就行。试了很久,要么很容易就在高温下起泡要么就扛不住Zn扩散,测暗电流测出来很大,高温出来用稀盐酸一泡就全部掉了,感觉应该是应力问题。目前recipe的条件如下: 工作频率: 13.65MHz 温度:260℃ 压强:1.5Pa power:500W SiH4 :110 sccm(He保护气,5% 的 SiH4含量) NH3 : 8.8 sccm Ar:1000sccm 现在成膜速率大概十几nm/min。没有N2管路,所以只能试NH3。各位大神走过路过麻烦指点一下,谢谢 |
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Norla
新虫 (初入文坛)
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