| 查看: 519 | 回复: 2 | ||
| 【悬赏金币】回答本帖问题，作者聚氨酯聚脲材料将赠送您 66 个金币 | ||
断肠飞龙铁杆木虫 (职业作家)
|
[求助]
光刻技术
|
|
|
光刻技术有没有可以刻出一系列几十微米的孔。什么基体都行。 发自小木虫Android客户端 |
回复此楼» 猜你喜欢
一志愿苏大材料工程专硕293求调剂
已经有4人回复
-
调剂的同学，走过路过，不要错过
已经有10人回复
-
2026考研求调剂-材料类-本科211一志愿985-初试301分
已经有4人回复
-
26申博自荐
已经有9人回复
-
材料科学（0805）338 求调剂
已经有6人回复
-
085600材料与化工，一志愿广州985，求调剂
已经有12人回复
-
346分材料求调剂
已经有5人回复
-
288求调剂085600材料与化工
已经有12人回复
-
材料工程085601调剂求老师收留
已经有4人回复
-
一志愿郑大071000分数282求调剂
已经有7人回复
wolfghost
版主 (知名作家)
- 博学EPI: 432
- 应助: 101 (高中生)
- 贵宾: 7.987
- 金币: 36642.2
- 散金: 11283
- 红花: 198
- 沙发: 8
- 帖子: 7788
- 在线: 1298小时
- 虫号: 573180
- 注册: 2008-06-13
- 性别: GG
- 专业: 电化学
- 管辖: 有奖问答
【答案】应助回帖
|
楼主答案是可以的。光刻技术目前精度已经到了纳米（国际领先7nm，国内已经突破28nm）尺度，所以你说的微米尺度就不是什么问题了。 另提醒两点： 首先，先要明白光刻的过程：光刻技术是指在光照作用下，借助光致抗蚀剂（又名光刻胶）将掩膜版上的图形转移到基片上的技术。其主要过程为：首先紫外光通过掩膜版照射到附有一层光刻胶薄膜的基片表面，引起曝光区域的光刻胶发生化学反应；再通过显影技术溶解去除曝光区域或未曝光区域的光刻胶（前者称正性光刻胶，后者称负性光刻胶），使掩膜版上的图形被复制到光刻胶薄膜上；最后利用刻蚀技术将图形转移到基片上。 其次，既然是做研究工作，还是要明确你要的具体目标，不能“什么基体都行”。方便楼下的虫子们跟贴回答。  祝科研坦途 |
断肠飞龙
2楼2020-08-06 15:07:24
断肠飞龙
铁杆木虫 (职业作家)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 11298.4
- 散金: 500
- 红花: 14
- 帖子: 3622
- 在线: 227.4小时
- 虫号: 2096106
- 注册: 2012-10-30
- 专业: 高分子科学
3楼2020-08-06 23:00:32
6