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valender

铁虫 (正式写手)

[交流] 【求助】请帮忙分析一张疏水二氧化硅的红外谱图

各个峰都代表什么基团？感谢您的帮助！！

[ Last edited by valender on 2009-7-8 at 02:39 ]
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1楼 2009-07-08 02:27:40
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valender

铁虫 (正式写手)
引用回帖:
Originally posted by gianthai at 2009-7-8 13:56:
一定要真空干燥后进行测试。因为二氧化硅表面会吸附大量的水分，导致羟基峰很大。
另外，修饰后的所谓的疏水的二氧化硅表面应该包含烷基，也就是在2900 cm-1附近的峰。峰小的原因是疏水基团的含量低的缘故。

谢谢你！ 作这个测试的时候没有干燥样品，可能原因就在这里吧。我再做一个。
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9楼2009-07-08 16:09:37
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lele000000

新虫 (初入文坛)
★ ★
jason168(金币+1,VIP+0):鼓励交流 7-8 13:36
valender(金币+1,VIP+0):谢谢！！ 7-8 14:13
你标的波数可能不准确啊？
波数        基团
3450 cm-1        －OH
2964 cm-1        ≡Si－O－C－
2805 cm-1        －CH2－
1636 cm-1        H2O
1257 cm-1        －CH2－
1091 cm-1        ≡Si－O－Si≡
1047 cm-1        ≡Si－O－C－
949 cm-1        ≡Si－O－H
847 cm-1        ≡Si－O－C－
800 cm-1        ≡Si－O－Si≡
458 cm-1        ≡Si－O－Si≡
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2楼2009-07-08 12:53:42
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nofrunolif

铁杆木虫 (职业作家)

不是疏水的吗？

★
valender(金币+1,VIP+0):谢谢！！ 7-8 14:13
那为啥-oH峰还那么强呢？
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3楼2009-07-08 13:34:31
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lele000000

新虫 (初入文坛)
★
valender(金币+1,VIP+0):谢谢！！ 7-8 14:13
可能有下面几个原因：
1、这个“疏水”，做的不成功，原因：一个重要的峰——2964的峰处没有。
2、本身的-OH还是很多，乙醇带来的。
3、这个图的比例有点问题
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4楼2009-07-08 13:46:08
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