应《网络安全法》要求，自2017年10月1日起，未进行实名认证将不得使用互联网跟帖服务。为保障您的帐号能够正常使用，请尽快对帐号进行手机号验证，感谢您的理解与支持！

24小时热门版块排行榜    

小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » 【求助】请帮忙分析一张疏水二氧化硅的红外谱图
121/2返回列表12下一页
查看: 843  |  回复: 11
只看楼主 @他人 存档 新回复提醒 (忽略) 收藏    在APP中查看
当前主题已经存档。
【有奖交流】积极回复本帖子，参与交流，就有机会分得作者 valender 的 1 个金币

valender

铁虫 (正式写手)

[交流] 【求助】请帮忙分析一张疏水二氧化硅的红外谱图

各个峰都代表什么基团？感谢您的帮助！！

[ Last edited by valender on 2009-7-8 at 02:39 ]
回复此楼

» 猜你喜欢
1楼 2009-07-08 02:27:40
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

lele000000

新虫 (初入文坛)
★ ★
jason168(金币+1,VIP+0):鼓励交流 7-8 13:36
valender(金币+1,VIP+0):谢谢！！ 7-8 14:13
你标的波数可能不准确啊？
波数        基团
3450 cm-1        －OH
2964 cm-1        ≡Si－O－C－
2805 cm-1        －CH2－
1636 cm-1        H2O
1257 cm-1        －CH2－
1091 cm-1        ≡Si－O－Si≡
1047 cm-1        ≡Si－O－C－
949 cm-1        ≡Si－O－H
847 cm-1        ≡Si－O－C－
800 cm-1        ≡Si－O－Si≡
458 cm-1        ≡Si－O－Si≡
赞一下(12人) 回复此楼
2楼2009-07-08 12:53:42
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

nofrunolif

铁杆木虫 (职业作家)

不是疏水的吗？

★
valender(金币+1,VIP+0):谢谢！！ 7-8 14:13
那为啥-oH峰还那么强呢？
赞一下(1人) 回复此楼
3楼2009-07-08 13:34:31
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

lele000000

新虫 (初入文坛)
★
valender(金币+1,VIP+0):谢谢！！ 7-8 14:13
可能有下面几个原因：
1、这个“疏水”，做的不成功，原因：一个重要的峰——2964的峰处没有。
2、本身的-OH还是很多，乙醇带来的。
3、这个图的比例有点问题
赞一下(1人) 回复此楼
4楼2009-07-08 13:46:08
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

fxwjg

木虫 (正式写手)
★
valender(金币+1,VIP+0):谢谢提醒。 7-8 14:14
建议真空干燥后再做测试
赞一下(1人) 回复此楼
5楼2009-07-08 13:49:30
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

gianthai

金虫 (正式写手)
★
valender(金币+1,VIP+0):谢谢帮助！ 7-8 14:14
一定要真空干燥后进行测试。因为二氧化硅表面会吸附大量的水分，导致羟基峰很大。
另外，修饰后的所谓的疏水的二氧化硅表面应该包含烷基，也就是在2900 cm-1附近的峰。峰小的原因是疏水基团的含量低的缘故。
赞一下(1人) 回复此楼
生活就是面对现实微笑，透过障碍注视未来！
6楼2009-07-08 13:56:53
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

gianthai

金虫 (正式写手)
再者，尽管压片作的不错，但是样品量明显过大阿，建议减小样品量
赞一下 回复此楼
生活就是面对现实微笑，透过障碍注视未来！
7楼2009-07-08 13:58:23
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

lele000000

新虫 (初入文坛)
★
valender(金币+1,VIP+0):谢谢！ 7-8 16:12
引用回帖:
Originally posted by fxwjg at 2009-7-8 13:49:
建议真空干燥后再做测试

气凝胶就是干燥后得到的，干燥前不叫气凝胶啊。
他这个图所显示的，本身就说明干燥过程中H2O排出的不好。如果他的工艺是超临界干燥，那他就不需要做疏水的了，直接干燥就可以了。如果做了疏水工艺就是说明他需要在常压下干燥。
赞一下(1人) 回复此楼
8楼2009-07-08 14:12:25
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

valender

铁虫 (正式写手)
引用回帖:
Originally posted by gianthai at 2009-7-8 13:56:
一定要真空干燥后进行测试。因为二氧化硅表面会吸附大量的水分，导致羟基峰很大。
另外，修饰后的所谓的疏水的二氧化硅表面应该包含烷基，也就是在2900 cm-1附近的峰。峰小的原因是疏水基团的含量低的缘故。

谢谢你！ 作这个测试的时候没有干燥样品，可能原因就在这里吧。我再做一个。
赞一下 回复此楼
9楼2009-07-08 16:09:37
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

valender

铁虫 (正式写手)
引用回帖:
Originally posted by lele000000 at 2009-7-8 12:53:
你标的波数可能不准确啊？
波数        基团
3450 cm-1        －OH
2964 cm-1        ≡Si－O－C－
2805 cm-1        －CH2－
1636 cm-1        H2O
1257 cm-1        －CH2－
1091 cm-1        ≡Si－O－Si≡
1047 cm-1        ≡Si－O－C－
949 cm-1        ≡Si－O－ ...

谢谢！能帮忙看看1384，934附近的峰代表什么基团吗？谢谢你！
赞一下 回复此楼
10楼2009-07-08 16:10:53
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
相关版块跳转 我要订阅楼主 valender 的主题更新
121/2返回列表12下一页
普通表情 龙 兔 虎 猫 高级回复 (可上传附件)
信息提示
关闭
请填处理意见
关闭