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moon.sun至尊木虫 (正式写手)
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旋涂工艺中的动态滴胶是什么操作？
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| 在有机光伏材料中，制备薄膜的方法有旋涂法，旋涂法有静态滴胶和动态滴胶，动态滴胶是如何操作的？另外，多滴旋涂又是怎么回事？求大神指点迷津！ |
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静态滴胶就是简单地把光刻胶滴注到静止的基片表面的中心，滴胶量为1-10ml不等。滴胶的多少应根据光刻胶的粘度和基片的大小来确定。 ? 粘度比较高或基片比较大，往往需要滴较多的胶，以保证在高速旋转阶段整个基片上都涂到胶。动态滴胶方式是在基片低速(通常在500转/分左右)旋转的同时进行滴胶，“动态”的作用是让光刻胶容易在基片上铺展开，减少光刻胶的浪费，采用动态滴胶不需要很多光刻胶就能润湿(铺展覆盖)整个基片表面。 ? 尤其是当光刻胶或基片本身润湿性不好的情况下，动态滴胶尤其适用，不会产生针孔。 ? 滴胶之后，下一步是高速旋转。使光刻胶层变薄达到最终要求的膜厚，这个阶段的转速一般在1500-6000转/分，转速的选定同样要看光刻胶的性能(包括粘度，溶剂挥发速度，固体含量以及表面张力等)以及基片的大小。快速旋转的时间可以从10秒到几分钟。匀胶的转速以及匀胶时间往往能决定最终胶膜的厚度。 ? 一般来说，匀胶转速快，时间长，膜厚就薄。影响匀胶过程的可变因素很多，这些因素在匀胶时往往相互抵销并趋于平衡。所以给予匀胶过程以足够的时间，让诸多影响因素达到平衡。匀胶工艺中最重要的一个因素就是可重复性。微细的工艺参数变化会带来薄膜特性巨大的差异。 发自小木虫Android客户端 |
3楼2021-03-06 18:30:11
2楼2021-02-04 11:59:07
