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分子级筛子

新虫 (小有名气)

[交流] 微纳结构刻蚀侧壁粗糙度问题 已有4人参与

硅基玻璃用氢氟酸多次刻蚀,侧壁上会有明显的刻蚀条纹,用化学生长法处理过,效果很烂。哪里出了问题?还有什么方法能处理微结构表面(尤其是侧面)?

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zuopeng142

铁虫 (小有名气)

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6楼: Originally posted by yswyx at 2020-04-07 16:21:07
硼硅玻璃做不出你要的这种结构的,干法刻蚀不行,刻蚀深度达不到,激光也不行,太窄了。
换成硅的话,就比较容易做了。如果需要流道透明,可以先做阳极键合,把硅和玻璃键合在一起,再减薄硅到100um,再刻蚀硅的流 ...

干法蚀刻是可以的,就是对设备和掩膜有要求。苏纳的NLD570这种机型可以刻这么深,就是不知道他们的配置对不对

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8楼2020-04-08 11:27:33
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zuopeng142

铁虫 (小有名气)

★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
什么结构呢?为什么要多次蚀刻,得讲明白才能分析啊

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2楼2020-03-29 23:35:37
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分子级筛子

新虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by zuopeng142 at 2020-03-29 23:35:37
什么结构呢?为什么要多次蚀刻,得讲明白才能分析啊

10*100微米的长方形沟槽(硼硅玻璃),刻蚀100微米深,发现配好的刻蚀溶液会腐蚀侧壁,一次刻不出来,就改成多次刻蚀,就是刻蚀5微米深,清洗干净,做了侧壁保护(PMMA光刻胶),再继续刻蚀,结果侧壁腐蚀减轻,已经达到能接受的程度,这个方法太麻烦了。想问问有没有只向下腐蚀,不向两侧壁腐蚀的方法。或者其他加工方法?

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3楼2020-03-31 23:33:13
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zuopeng142

铁虫 (小有名气)

★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
引用回帖:
3楼: Originally posted by 分子级筛子 at 2020-03-31 23:33:13
10*100微米的长方形沟槽(硼硅玻璃),刻蚀100微米深,发现配好的刻蚀溶液会腐蚀侧壁,一次刻不出来,就改成多次刻蚀,就是刻蚀5微米深,清洗干净,做了侧壁保护(PMMA光刻胶),再继续刻蚀,结果侧壁腐蚀减轻,已 ...

湿法来各项异性腐蚀很难,试试干法或者激光

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4楼2020-04-02 09:50:31
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