| 查看: 4886 | 回复: 15 | |||||
| 【奖励】 本帖被评价12次，作者zdhlover增加金币 9.5 个 | |||||
| 当前主题已经存档。 | |||||
[资源]
【转帖】用VASP4.6计算晶体硅能带实例
|
|||||
|
[分享] 用VASP4.6计算晶体硅能带实例 VASP Version : 4.6 在此文中，我将用硅晶体作为实例，来说明如何用VASP4.6来计算固体的能带结构。首先我们要了解晶体硅的结构，它是两个嵌套在一起的FCC布拉菲晶格，相对的位置为 (a/4,a/4,a/4), 其中a=5.4A是大的正方晶格的晶格常数。在计算中，我们采用FCC的原胞，每个原胞里有两个硅原子。 VASP计算需要以下的四个文件：INCAR（控制参数）, KPOINTS（倒空间撒点）, POSCAR（原子坐标）, POTCAR（赝势文件） 为了计算能带结构，我们首先要进行一次自洽计算，得到体系正确的基态电子密度。然后固定此电荷分布，对于选定的特殊的K点进一步进行非自洽的能带计算。 有了需要的K点的能量本征值，也就得到了我们所需要的能带。 步骤一.—自洽计算产生正确的基态电子密度： 以下是用到的各个文件样本: INCAR 文件： SYSTEM = Si Startparameter for this run: NWRITE = 2; LPETIM=F write-flag & timer PREC = medium medium, high low ISTART = 0 job : 0-new 1-cont 2-samecut ICHARG = 2 charge: 1-file 2-atom 10-const ISPIN = 1 spin polarized calculation? Electronic Relaxation 1 NELM = 90; NELMIN= 8; NELMDL= 10 # of ELM steps EDIFF = 0.1E-03 stopping-criterion for ELM LREAL = .FALSE. real-space projection Ionic relaxation EDIFFG = 0.1E-02 stopping-criterion for IOM NSW = 0 number of steps for IOM IBRION = 2 ionic relax: 0-MD 1-quasi-New 2-CG ISIF = 2 stress and relaxation POTIM = 0.10 time-step for ionic-motion TEIN = 0.0 initial temperature TEBEG = 0.0; TEEND = 0.0 temperature during run DOS related values: ISMEAR = 0 ; SIGMA = 0.10 broadening in eV -4-tet -1-fermi 0-gaus Electronic relaxation 2 (details) Write flags LWAVE = T write WAVECAR LCHARG = T write CHGCAR VASP给INCAR文件中的很多参数都设置了默认值，所以如果你对参数不熟悉，可以直接用默认的参数值。比如在这个例子中，下面的比较简单的INCAR 文件也可以完成任务: SYSTEM = Si Startparameter for this run: PREC = medium medium, high low ISTART = 0 job : 0-new 1-cont 2-samecut ICHARG = 2 charge: 1-file 2-atom 10-const EDIFF = 0.1E-03 stopping-criterion for ELM NSW = 0 number of steps for IOM IBRION = 2 ionic relax: 0-MD 1-quasi-New 2-CG ISIF = 2 stress and relaxation KPOINT文件: 我们采用自动的Monkhorst-Pack K点撒取方式。对于类似于硅晶体的半导体材料，通常 4x4x4 的K点网格就够了。 Monkhorst Pack 0 Monkhorst Pack 4 4 4 0 0 0 POSCAR文件: 我们采用FCC原胞，所以每个原胞包含两个硅原子 Si 5.38936 0.5 0.5 0.0 0.0 0.5 0.5 0.5 0.0 0.5 2 Cartesian 0.0000000000000 0.00000000000 0.0000000000000 0.2500000000000 0.25000000000 0.2500000000000 POTCAR文件 不需要进行任何改动，只需将POTCAR文件从正确的赝势库里拷贝过来就行了。 运行VASP进行完这一步的计算后，我们应该得到了自洽的电荷分布-CHGCAR文件。为了得到能带结构，我们需要对指定的K点进行非自洽的计算，然后将信息汇总，得到E-K的能带关系。 步骤二.—在固定电子密度的情况下，得到选取K点的能量本征值。 我们需要修改一下INCAR文件中的部分参数 ICHARG = 11 charge: 1-file 2-atom 10-const ICHARG=11 表示从CHGCAR中读入电荷分布，并且在计算中保持不变。 我们还需要更改KPOINT文件，来指定我们感兴趣的某些高对称性的K点。在VASP4.6中，这个可以通过Line mode来轻易实现. k-points along high symmetry lines 10 ! 10 intersections Line-mode rec 0 0 0 ! gamma 0.5 0.5 0 ! X 0.0 0.0 0 ! gamma 0.5 0.5 0.5 ! L 通过指定Line-mode， VASP会自动在起点和终点之间插入指定的K点数，比如上面的文件就是指定VASP计算沿着Gamma点到X点，以及Gamma点到L点的K点，每个方向上各取10个K点。下图是硅晶体的第一布里渊区，标出了一些高对称性点。 作如上修改后，我们再次运行VASP，然后我们就可以从OUTCAR文件或者EIGENVAL文件里得到需要的每个K点的能级信息。 比如说EIGENVAL文件会有类似以下的输出 0.5555556E-01 0.5555556E-01 0.0000000E+00 0.5000000E-01 1 -6.8356 2 4.8911 3 5.0077 4 5.0079 5 7.6438 6 8.0693 7 8.0694 8 9.0057 第一行就是K点的倒空间的坐标，接下来的8行告诉我们在那个K点上的8个能级。你可以通过EXCEL或者ORIGIN之类的画图软件可视化结果。由于现在手头上已经有了每个K点的能级信息，则将这些K点的能级连接起来就是你所需要的能带图了。下图是用以上步骤算得的硅的能带图。我们可以看到硅并非是直接能隙的材料。同时，由于我们用了LDA，所以硅的能隙和实验相比大大被低估了（实验为1.12eV，计算值~0.6eV）。 [ Last edited by zdhlover on 2009-6-26 at 02:35 ] |
回复此楼» 收录本帖的淘帖专辑推荐
 VASP | VASP计算 | 计算-vasp |
» 猜你喜欢
复试调剂
已经有23人回复
-
求调剂学校
已经有15人回复
-
085801电气专硕272求调剂
已经有19人回复
-
材料工程281还有调剂机会吗
已经有44人回复
-
一志愿华中农业071010，320求调剂
已经有11人回复
-
289 分105500药学专硕求调剂(找B区学校)
已经有3人回复
-
山东省基金2026
已经有12人回复
-
药学求调剂
已经有12人回复
-
一志愿沪9，生物学326求调剂
已经有3人回复
-
307中医考研调剂
已经有3人回复
» 本主题相关商家推荐: (我也要在这里推广)
2楼2009-06-26 23:01:55
4楼2009-06-27 03:54:18
5楼2009-06-27 09:38:48
6楼2009-06-27 10:04:28
8楼2009-06-27 10:35:25
9楼2010-02-05 05:53:31
 本帖仅楼主可见 |
11楼2010-02-05 10:40:51
12楼2010-03-06 15:18:50
13楼2010-03-09 16:23:30
15楼2010-03-10 16:30:59
16楼2010-03-10 19:34:15
17楼2011-08-13 22:14:41
18楼2011-08-31 07:33:54
简单回复
NKDMS3楼
2009-06-27 00:26
回复
wuli87楼
2009-06-27 10:18
回复
JUPENT10楼
2010-02-05 10:15
回复
zxzj0514楼
2010-03-09 21:06
回复
5