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zcq4891木虫 (小有名气)
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[交流]
【请教】磁控溅射玻璃衬底清洗
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刚刚接触磁控溅射实验，在第一步衬底清洗就遇到问题了。现在办公室的前辈教我用酒精超声波清洗半小时，然后直接用氮气吹干，多余的直接保存在酒精中，他以前就那样做的，总感觉不妥。 查资料后发现方法较多，就是比较麻烦，要用好几种不同的有机溶剂清洗，比如底首先按照甲苯、丙酮、乙醇的顺序超声清洗 5 分钟，去离子水冲洗，然后氮气吹干等。 各位都知道那些清洗方法啊？最好是比较方便的。还有我现在用的方法是不是很不妥啊。希望有人告诉我清洗衬底要注意的问题，以及对实验的影响。 PS：要是有同样做磁控溅射的木虫们一起建群探讨就好了! |
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 资源 | 基片处理 | ITO基底的清洗 |
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zcq4891(金币+2,VIP+0): 6-23 20:00
zcq4891(金币+2,VIP+0): 6-23 20:00
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我们溅射前的玻璃片，一般都用Piranha solution洗， 具体操作是： 先把玻璃片洗干净，（洗涤剂先洗，然后去离子水冲干净）； 然后将浓硫酸：双氧水=2：1的比例混合配置piranha溶液（即配即用，用完稀释后倒掉，不能密封保存，有爆炸的危险）； 再把第一步洗干净的玻璃片放到piranha溶液里泡10分钟； 之后取出，用大量去离子水冲干净； 用酒精冲洗，氮气吹干，使用。 感觉用丙酮、无水乙醇超声清洗过的基片，表面还是会有油污，溅射后薄膜与基片的结合力不够。 比较好的例子就是我在没洗好的玻璃片上面打Ni/Cr缓冲层，然后再打Au电极，做完的薄膜拿到压焊机去拉引线的时候，引线经常会把电极膜给带出来。 把基片清洗干净后就没出现这种问题了。 [ Last edited by chenfire on 2009-6-23 at 16:00 ] |
5楼2009-06-23 15:56:16
6楼2009-10-07 18:44:32
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