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zcq4891木虫 (小有名气)
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[交流]
【请教】磁控溅射玻璃衬底清洗
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刚刚接触磁控溅射实验，在第一步衬底清洗就遇到问题了。现在办公室的前辈教我用酒精超声波清洗半小时，然后直接用氮气吹干，多余的直接保存在酒精中，他以前就那样做的，总感觉不妥。 查资料后发现方法较多，就是比较麻烦，要用好几种不同的有机溶剂清洗，比如底首先按照甲苯、丙酮、乙醇的顺序超声清洗 5 分钟，去离子水冲洗，然后氮气吹干等。 各位都知道那些清洗方法啊？最好是比较方便的。还有我现在用的方法是不是很不妥啊。希望有人告诉我清洗衬底要注意的问题，以及对实验的影响。 PS：要是有同样做磁控溅射的木虫们一起建群探讨就好了! |
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 资源 | 基片处理 | ITO基底的清洗 |
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