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lionly0316

铜虫 (初入文坛)

[求助] ITO-PET的湿法刻蚀 已有1人参与

最近想再PET基底的ITO柔性薄膜上做个器件,最小线宽10微米,ITO的厚度应该在100nm左右,用稀硝酸与稀盐酸溶液进行腐蚀,发现侧蚀很严重能达到惊人的10微米左右,同时刻蚀过程中明显能发现分层剥离的现象。查文献说ITO应该是属于各向同性的材料,那么侧蚀应该与深度相差不大,不知道侧蚀这么大的症结所在?原来同厂家的玻璃基底的ITO上也做过,效果不错,几乎没有明显侧蚀,与ITO各向同性的特性相符。
同时在摸索刻蚀时间的过程中发现个有趣的现象,刻蚀过的器件再次放入腐蚀液中再次腐蚀,发现几乎腐蚀不动,我试过一次性腐蚀50s,侧蚀能达到6微米,而分次腐蚀1分30秒,空隙还有没刻蚀干净的情况。
这些问题让人很崩溃。。。不知有没有做过的同志能帮助解答一下
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zsnano

金虫 (正式写手)

4楼2019-11-02 12:19:08
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wonderfulll

至尊木虫 (文坛精英)

测蚀很难避免,因为缺陷导致,不好控制就取中间理想地带做东西好了

发自小木虫IOS客户端
2楼2019-10-27 15:38:06
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babyoflion

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
肯定是你掩膜没做好啊 我做过的差别不大的
3楼2019-10-28 19:07:12
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