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层状化合物不同晶面的氩离子刻蚀速度一样吗
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| 有一个层状化合物生长在基底上，层内是共价键，层间是范德华力，假设有两种生长方向，一种是层与基底平行，另一种是层与基底垂直，那么这两个样品用Ar+刻蚀表面，用相同的溅射参数，溅射速度会一样吗 |
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2019-10-18 13:37
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psylhh4楼
2019-10-21 20:57
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2020-08-13 16:14
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