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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料物理 » 层状化合物不同晶面的氩离子刻蚀速度一样吗
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jinxin1991

木虫 (正式写手)

[交流] 层状化合物不同晶面的氩离子刻蚀速度一样吗

有一个层状化合物生长在基底上，层内是共价键，层间是范德华力，假设有两种生长方向，一种是层与基底平行，另一种是层与基底垂直，那么这两个样品用Ar+刻蚀表面，用相同的溅射参数，溅射速度会一样吗
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1楼 2019-10-17 09:27:31
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miaojiabing2楼
2019-10-17 12:41   回复  
jinxin1991(金币+1): 谢谢参与
Genifer3楼
2019-10-18 13:37   回复  
jinxin1991(金币+1): 谢谢参与
psylhh4楼
2019-10-21 20:57   回复  
jinxin1991(金币+1): 谢谢参与
苏州华博5楼
2020-08-13 16:14   回复  
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